光掩模制造工艺介绍

演讲者:   沈俊然，上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司

时间:      2023年11月24日下午 15:00-16:30

邀请人:   量子器件中心

地点:      教学中心 303

摘要:

28nm光掩模制造工艺技术流程介绍：通过对掩模的用途、类型、在产业链中的作用及地位的讲解，讲解掩模有基本概念；掩模生产原理、工艺流程及相关设备的详细介绍，详细介绍掩模的生产流程；并对掩模产品检验方法及相关设备的介绍，介绍掩模产品的主要控制项目；

报告人简介:

沈俊然先生长期从事集成电路光掩模制造工艺技术研发和营运管理，曾参与我国第一条集成电路引进生产线建设（65工程）、75工程Mask建设项目，自主开发光掩模电子束制造工艺技术及微纳掩模清洗工艺，且成功应用于掩模生产线的量产。2011年荣获北京市科学技术奖：壹等奖。