Visit ShanghaiTech University | 中文 | How to find us
HOME > News and Events > Events
下一代纳米光刻技术的开发和应用
Date: 2018/3/15             Browse: 150

Speaker:     Prof.  Liang Wang, USTC

Time:          Mar 15, 15:00—16:00

Location:    Room 1A-200, SIST Building

Host:          Prof. Baile Chen

Abstract:

在芯片技术的发展过程中,器件的特征尺寸越来越小,为了达到纳米精度要求,光刻技术成为关键。投射光刻技术是目前光刻工艺的主流。随着加工器件的日益精细和尺度不断缩小,这种传统光刻技术也变得越发复杂,而这也导致了器件的光刻成本不断增加。最新的ASML EUV光刻机售价已经达到一亿美元。因此,许多研究机构都在努力寻找可替代的低成本光刻技术。本报告将着重介绍期中的等离子直写技术和纳米压印技术。

Bio:

王亮博士于2008年5月美国普渡大学机械工程系获得博士学位。毕业后前往德克萨斯州澳士汀参与创立了分子制膜公司(Molecular Imprints).2011年初赴美国硅谷加入半导体微纳设备制造商科林研发公司(Lam Research Corp)2013年入选中央组织部“青年千人计划”,2014年9月全职回国任中国科学技术大学教授/博士生导师.

王亮博士的研究方向是纳米光学和纳米器件。近年有30余篇学术论文发表在国际刊物上,被引用超过600次。申请和获得国际,国内专利10项。主持国家自然基金重大项目子课题和面上项目,参与国家自然科学基金重点项目。

SIST-Seminar 18008